這款研究應用設備配備12個蒸發源安裝口，靈活適用于多種材料體系研究，能單次外延3片3inch或單片6inch襯底，具備簡潔友好的操作界面和模塊化維護設計，結構緊湊且節能高效，特別采用液氮冷屏和低功耗泵組，實現高性能與成本節約。
| 配置 | MBE-800P 分子束外延系統 | |
| 生長室 | 腔體尺寸 | 650mm I.D. |
| 液氮冷屏 | 標配 | |
| 襯底加熱器最高溫度 | 1000℃ | |
| 襯底加熱器溫度穩定性 | ±0.2℃ | |
| 襯底最大尺寸 | 6inch | |
| 襯底最大旋轉速度 | 60RPM | |
| 蒸發源配置 | 12×CF100 | |
| 獨立的蒸發源擋板 | 電機驅動 | |
| 烘烤溫度 | 200℃ | |
| RHEED | 15~30keV | |
| RGA | 0-200amu | |
| 預處理 | 預處理加熱器最高溫度 | 600℃ |
| 進樣室 | 樣品停放臺 | 6個 |
| 紅外烘烤燈 | 選配 | |
| MBE軟件 | GUIDE軟件 | 加配 |
| 選配 | CCD相機 | 選配 |
| 手套箱 | 選配 | |
| 污染物回收系統 | 選配 | |
| 真空照明系統 | 選配 | |
| 泵車 | 選配 | |
| 真空照明系統 | 選配 | |
| 原子吸收光譜束流監測系統AAFM-3 | 選配 | |
| 襯底真實溫度監控系統BTM-100 | 選配 | |
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