費(fèi)勉儀器的高效射頻等離子體裂解源,采用獨(dú)創(chuàng)的射頻聚焦激勵(lì)技術(shù),4種高效固態(tài)射頻源作為驅(qū)動(dòng)電源(13.56MHz/433MHz/915MHz/2450MHz),無(wú)需復(fù)雜的射頻匹配網(wǎng)絡(luò),能夠有效提高氣體的離化效率。在等離子體引出口設(shè)置小孔結(jié)構(gòu),通過調(diào)節(jié)小孔結(jié)構(gòu)優(yōu)化引出原子/離子的穩(wěn)定性和均勻性。與傳統(tǒng)的射頻等離子體源相比,該裂解源能夠更好地控制由于開關(guān)閥門和開關(guān)射頻引起的束流不穩(wěn)定性,同時(shí)該裂解源可以通過不同材料的放電腔體裂解產(chǎn)生不同的等離子體源如氮源,氧源和氫源等,廣泛應(yīng)用于分子束外延系統(tǒng)(MBE)中氮化物生長(zhǎng)、氮原子注入和摻雜、氧化物生長(zhǎng)、氧原子的注入和摻雜以及氫原子表面的清洗等。
● 獨(dú)創(chuàng)的射頻聚焦技術(shù):氣體離化效率高,等離子體源穩(wěn)定性高 | ● 4種固態(tài)射頻驅(qū)動(dòng):結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,無(wú)復(fù)雜的外部匹配網(wǎng)絡(luò),易于操作 | ● 適用于N:N2, O2, H2, CH4, Ar, Kr 等多種工作氣體 |
● 緊湊超高真空設(shè)計(jì),適用于CF35/CF63/CF100等各種安裝口 | ● 三個(gè)主要應(yīng)用方向:MBE薄膜生長(zhǎng)用原子源,表面改性用離子源,真空清洗用等離子體源 |
離子源433 | 離子源915 |
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