MBE-400 主要采用氬弧焊加工的圓柱形316不銹鋼腔體,腔體頂部法蘭尺寸為DN350CF,最多能安裝10個蒸發源。預留多種法蘭口,安裝法蘭兼容RGA、RHEED、BFM等多種原位測量,束流擋板瞬時可控,實現2inch高質量薄膜生長。
● 蒸發源差分設計,允許在高氧或臭氧分壓下沉積氧化物材料 | ● 無需破壞生長腔真空,實現蒸發源的填料和替換 | ● 可選用高純臭氧發生系統或者射頻等離子源作為氧源 |
MBE 400 | 模塊描述 | 配置參數 | |
生長室 | 腔體 | 腔體材料 | SS316 |
腔體尺寸 | 300mm I.D | ||
烘烤溫度 | Max.200℃ | ||
本底真空 | < 5×10-10 mbar | ||
抽氣系統 | 700L/s分子泵+10m3/h機械泵 | ||
真空測量系統 | 離子規+Pirani規 | ||
液氮冷屏 | 選配 | ||
離子泵 | 選配 | ||
低溫泵 | 選配 | ||
樣品架 | 樣品最大尺寸 | 2 inch | |
襯底加熱方式 | 輻射加熱 | ||
襯底加熱器溫度 | 室溫-1200K | ||
電子束加熱 | 選配 | ||
襯底加熱方式 | 選配 | ||
液氮制冷模塊 | 選配 | ||
部件 | 蒸發源配置 | 6xDN40CF, 2xDN63CF | |
獨立的蒸發源擋板 | 氣動驅動 | ||
QCM | 標配 | ||
RHEED | 15KeV-30KeV | ||
Ion Source | 選配 | ||
RGA | 選配 | ||
快速進樣室 | 腔體 | 腔體材料 | SS316 |
烘烤溫度 | Max.200℃ | ||
本底真空 | <5×10-8 mbar | ||
抽氣系統 | 80L/s分子泵+10m3/h機械泵 | ||
真空測量系統 | 全量程規 | ||
部件 | 樣品停放臺 | 3工位 | |
系統集成及控制 | GUIDE軟件 | 標配 | |
烘烤系統 | 標配 | ||
系統支架 | 標配 | ||
真空照明系統 | 選配 | ||
等離子清洗 | 選配 | ||
CCD相機 | 選配 |
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